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氧電漿表面處理對二氧化鋯薄膜之影響

 

氧電漿表面處理對二氧化鋯薄膜之影響

年度:

101

專題生:

陳宜樺簡修慧

指導老師:

黃俊元

查詢關鍵字:

contact angle, O2 Plasma, ZrO2

摘要:

 

  本實驗探討氧電漿表面處理的功率或時間改變,產生之接觸角大小比較。

設功率為50W100W兩種功率下,分別在未加氧電漿(0)10秒、30秒、1分鐘、1分半、3分鐘、5分鐘七種情況下,得到液態水對於樣品表面所產生之接觸角,並觀察條件改變時接觸角的變化。

目錄:

 

 

 

 

 
 

 

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